películas de barreira

I. Fatores que afetam o desempenho de filmes de embalagem de barreira de óxido de silício banhados a vapor

O filme base de revestimento a vapor, o método de revestimento a vapor, as condições de revestimento a vapor, bem como a composição do revestimento de revestimento a vapor e a espessura da camada de revestimento a vapor podem ter um grande impacto no desempenho dos filmes de barreira de óxido de silício banhados a vapor, que podem ser principalmente listados a seguir.www.susumino.com南京住野精工阻隔膜生产线

1. Seletividade do substrato
Conforme mencionado anteriormente, as propriedades de barreira dos filmes de barreira de óxido de silicone depositados em vapor dependem do revestimento de SiOx e, portanto, o revestimento não pode ser danificado durante o processo de cozimento a vapor.Os filmes de embalagem de barreira de óxido de silicone vaporizados são frequentemente laminados com outros filmes para criar filmes vaporizados e a seleção do substrato de vaporização deve levar em consideração os seguintes problemas.







(1) Tipo de filme plástico

A solidez da adesão entre o filme de óxido de silício vaporizado e o filme plástico tem uma relação maior com o tipo de filme plástico base.PET, PVC e outros filmes polares têm melhor adesão com óxido de silício, enquanto filmes apolares, com óxido de silício, têm pior adesão.



(2) Estado da superfície de filmes plásticos



As propriedades de barreira dos filmes de barreira de óxido de silício banhados a vapor são influenciadas pela espessura da camada revestida a vapor, mas em maior extensão pela uniformidade do revestimento de óxido de silício.Além da composição química e estrutura da própria camada vapor chapeada, a lisura da superfície do filme base utilizado também é um fator importante na formação de defeitos, quanto maior a rugosidade, mais fácil é causar defeitos de chapeamento a vapor , mas a quantidade certa de rugosidade permitirá a formação de uma ancoragem física entre a camada vaporizada e a superfície do filme base, melhorando a adesão intercamada.



(3) Condição de pré-tratamento de superfície de filmes plásticos



A fim de obter filmes depositados por vapor de boa qualidade, é necessário um tratamento de coroa moderado da superfície do filme de base.Após o tratamento corona da superfície, uma camada de óxido pode ser formada na superfície do filme plástico (através de uma variedade de reações químicas complexas, como reticulação, ozonização, carboxilação e nitroxilação, átomos e grupos atômicos, como oxigênio e nitrogênio, são introduzidos para a superfície do filme plástico), aumentando a força de ligação entre o filme base e o revestimento depositado por vapor.No caso de determinados equipamentos de pré-tratamento, se o tempo de pré-tratamento for insuficiente e a modificação da superfície não for adequada, isso levará a uma diminuição da solidez de união entre o filme base e o revestimento;um tempo de pré-tratamento muito longo pode causar um enfraquecimento da interface do filme base em um nível mais profundo, produzindo uma camada de interface fraca do próprio filme base, o que também causará uma diminuição na ligação entre a superfície do material base e o camada de chapeamento de vapor.
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2. O efeito das condições do processo de deposição de vapor no desempenho de filmes de embalagem de barreira de óxido de silício banhados a vapor

Independentemente de a deposição de vapor física ou química ser usada, as condições do processo de deposição de vapor podem ter um impacto significativo no desempenho dos filmes de embalagem de barreira de óxido de silicone depositados por vapor, portanto, as condições do processo que conduzem à melhoria das propriedades de barreira dos filmes depositados por vapor devem ser usado sempre que possível.



(1) Quando a deposição física de vapor é usada, o

O nível de vácuo, a temperatura do filme de substrato, a potência do canhão de elétrons, a forma da matéria-prima a ser vaporizada, a velocidade de introdução de oxigênio na câmara de vácuo, a espessura do revestimento vaporizado (determinado pela vaporização tempo e potência de evaporação) afetam o desempenho do produto final.



Quanto maior o nível de vácuo durante a evaporação, melhor a evaporação do SiO2 e maior a qualidade do revestimento de evaporação produzido.



②Quanto maior a temperatura do filme plástico base durante a evaporação, melhor é para o SiO evaporado se depositar no filme plástico base, formando um revestimento denso e melhorando a adesão entre a camada de evaporação e o filme plástico base, aumentando assim o A temperatura do filme base de plástico é adequada para melhorar a qualidade do filme de evaporação.



③O uso de bombardeio de canhão de elétrons, evaporação de SiO2, é apropriado usar o bloco de SiO2, porque o SiO2 em pó no bombardeio de canhão de elétrons, fácil de produzir fenômeno de pulverização de pó, afetando a qualidade do revestimento de evaporação e SiO2 em pó é propício à evaporação de aquecimento de resistência.



Quanto maior a quantidade de oxigênio, ou seja, quanto maior o valor de x, mais a camada de vapor se move na direção do aumento da transparência, mas a barreira tende a diminuir.Quando x é igual a 2, obtém-se uma camada de evaporação incolor e transparente com fracas propriedades de barreira.x geralmente é controlado entre 1,5 e 1,8 para obter um filme de óxido de silício evaporado com altas propriedades de barreira e boa transparência.www.susumino.com南京住野精工阻隔膜生产线



Quando a espessura da camada de vapor aumenta, a barreira do revestimento de vapor aumenta, mas quando a espessura da camada de vapor excede 50 nm, a barreira do revestimento de vapor permanece basicamente inalterada se a espessura da camada de vapor for aumentada, portanto, não se pode esperar que melhore indefinidamente a barreira do filme de revestimento de vapor reduzindo a velocidade da linha de produção (aumentando o tempo de revestimento de vapor) e aumentando a espessura da camada de vapor.



(2) deposição de vapor químico, onda eletromagnética de alta frequência ou seleção de frequência de micro-ondas, deve ser ionizada com a energia de ionização na atmosfera e a energia necessária para a ionização do material vaporizado corresponder, onda eletromagnética de alta frequência é geralmente selecionada 13.56 MHz, microondas é geralmente selecionado 2,45MHz, vácuo em cerca de 10-2Pa pode obter excelente efeito de deposição de vapor, enquanto a deposição física de vapor requer um vácuo mais alto, ou seja, 10-2 ~ 10-3Pa ou superior.




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